Продукты

Дом > Продукты > Al2O3 керамическое > Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Категории

Металлизированная керамика

(10)

Контакты

Контакты: Miss. Zhu

Телефон: 17351500728

Свяжитесь сейчас

Напишите нам.

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Name: Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-PS14
Price: 95.00 USD
Availability: InStock

Подробная информация о продукции

Место происхождения: Цзянсу, Китай

Фирменное наименование: Wuxi Special Ceramic

Сертификация: ISO 9001:2015

Номер модели: WS-AL-PS14

Условия оплаты и доставки

Количество мин заказа: 10 шт.

Цена: US$10~US$180/Piece

Упаковывая детали: Экспортные коробки с пенопластовыми вставками, паллетированные для морских или авиаперевозок.

Время доставки: 15-30 дней после подтверждения

Условия оплаты: Т/Т, Л/К, Вестерн Юнион

Поставка способности: 100 000 штук в месяц

Лучшая цена

Подробная информация о продукции

Описание продукта

Выделить: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                Polished Alumina Wafer Chuck, Mirror Finish Ceramic Part, Semiconductor Processing Equipment
                              

Содержание глинозем:	99,5% Al2O3	Поверхностная обработка:	Зеркало отполировано
Шероховатость поверхности:	Ра 0,02 мкм	Степень чистоты:	Вакуумный класс
Плотность:	3,92 г/см3	Цвет:	Цвета слоновой кости
Приложение:	оборудование для обработки полупроводников	максимальная температура пользы:	1700 градусов С

Содержание глинозем:	99,5% Al2O3
Поверхностная обработка:	Зеркало отполировано
Шероховатость поверхности:	Ра 0,02 мкм
Степень чистоты:	Вакуумный класс
Плотность:	3,92 г/см3
Цвет:	Цвета слоновой кости
Приложение:	оборудование для обработки полупроводников
максимальная температура пользы:	1700 градусов С

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

In semiconductor processing, the surface that touches the wafer must be perfect: smooth enough to avoid particle trapping, clean enough to avoid contamination, and stable enough to hold wafers flat at process temperature. Our Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chucks are pressed and sintered from vacuum grade 99.5% alumina, then ground and polished to a mirror finish with roughness down to 0.02 microns Ra. The dense, non-porous surface releases wafers cleanly, resists the

Tags:

Al2O3 керамическое

Керамика стеатита

Керамика нитрида кремния

Керамика Зирконя

керамическая шлюпка испарения

керамика кремниевого карбида

Керамика кордиерита

Керамика муллита

Субстрат керамики

Керамика азотистого бора

Керамический вал

Керамическое сопло

Окись циркония керамическая

Macor керамическое

керамика полупроводника

Лезвие Zirconia керамическое

Порошок Y2O3

Нитрид алюминия керамический

Металлизированная керамика

Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Polished Alumina Wafer Chuck

Mirror Finish Ceramic Part

Semiconductor Processing Equipment

Плита глинозема керамическая,

Al2o3 керамическая плита,

Al2O3 керамическое

Керамика стеатита

Керамика нитрида кремния

Керамика Зирконя

керамическая шлюпка испарения

керамика кремниевого карбида

Керамика кордиерита