Продукты

Дом > Продукты > Al2O3 керамическое > High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Категории

Металлизированная керамика

(10)

Контакты

Контакты: Miss. Zhu

Телефон: 17351500728

Свяжитесь сейчас

Напишите нам.

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Name: High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-HP02
Price: 105.00 USD
Availability: InStock

Подробная информация о продукции

Место происхождения: Цзянсу, Китай

Фирменное наименование: Wuxi Special Ceramic

Сертификация: ISO 9001:2015

Номер модели: WS-AL-HP02

Условия оплаты и доставки

Количество мин заказа: 10 шт.

Цена: US$10~US$200/Piece

Упаковывая детали: Экспортные коробки с пенопластовыми вставками, паллетированные для морских или авиаперевозок.

Время доставки: 15-30 дней после подтверждения

Условия оплаты: Т/Т, Л/К, Вестерн Юнион

Поставка способности: 100 000 штук в месяц

Лучшая цена

Подробная информация о продукции

Описание продукта

Выделить: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                High Purity Alumina Susceptor, Semiconductor Grade Ceramic Plate, Wafer Processing Equipment Part
                              

Содержание глинозем:	99,5% Al2O3	Степень чистоты:	Полупроводниковый класс
Плотность:	3,92 г/см3	Шероховатость поверхности:	Ра 0,1-0,4 мкм
Плоскостность:	0,02 mm	Цвет:	Цвета слоновой кости
Приложение:	оборудование для обработки пластин	максимальная температура пользы:	1700 градусов С
Особенность:	Низкое ионное загрязнение

Содержание глинозем:	99,5% Al2O3
Степень чистоты:	Полупроводниковый класс
Плотность:	3,92 г/см3
Шероховатость поверхности:	Ра 0,1-0,4 мкм
Плоскостность:	0,02 mm
Цвет:	Цвета слоновой кости
Приложение:	оборудование для обработки пластин
максимальная температура пользы:	1700 градусов С
Особенность:	Низкое ионное загрязнение

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Semiconductor wafer processing demands materials that neither shed particles nor leach metallic contamination into the process environment. Our High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates are manufactured from 99.5% alpha alumina with tightly controlled trace element levels, then fired in a clean production line to produce a fully dense, pore-free body that stays chemically silent even under plasma and high bias conditions. Each plate is diamond ground and lapped to a flatness

Tags:

Al2O3 керамическое

Керамика стеатита

Керамика нитрида кремния

Керамика Зирконя

керамическая шлюпка испарения

керамика кремниевого карбида

Керамика кордиерита

Керамика муллита

Субстрат керамики

Керамика азотистого бора

Керамический вал

Керамическое сопло

Окись циркония керамическая

Macor керамическое

керамика полупроводника

Лезвие Zirconia керамическое

Порошок Y2O3

Нитрид алюминия керамический

Металлизированная керамика

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

High Purity Alumina Susceptor

Semiconductor Grade Ceramic Plate

Wafer Processing Equipment Part

Плита глинозема керамическая,

Al2o3 керамическая плита,

Al2O3 керамическое

Керамика стеатита

Керамика нитрида кремния

Керамика Зирконя

керамическая шлюпка испарения

керамика кремниевого карбида

Керамика кордиерита